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硅锗超晶格及低维量子结构

  • 著者:盛箎 等
  • 编译者:
  • 丛书名: 科学前沿丛书
  • 出版社:上海科技
  • 出版日期:2004-08-01
  • ISBN:7532375404
  • 版次:01版01次
  • 装帧:精装
  • 开本:16开
  • 页数:294

    本书比较系统地介绍了Si分子束外延和Si1-xGex/Si低维量子体系研究工作的发展和一些新进展,并根据当前国际上的发展趋势,围绕复旦大学应用表面物理国家重点实验室过去十多年来所取得的各项研究成果,对Si分子束外延和Si1-xGex/Si低维量子体系的材料生长、表征、物理特性研究和器件应用等方面作了比较完整的介绍。
    本书第1章介绍了Si1-xGex/Si体系的基本物理特性,第2章介绍了Si分子束外延设备、实时监测分析技术及各种类型的Si1-xGex/Si材料的外延生长技术,第3章介绍了Si1-xGex/Si异质材料的表征,第4、5章分别论述和介绍了Si1-xGex/Si异质结、超晶格和量子阱的电学和光学特性,同时也介绍了最新发展的Si基Ge量子点研究,第6章介绍了量子点的生长及其光学和电学特性,第7章介绍了Si1-xGex/Si异质结材料在器件方面的应用。
    本书可作为半导体物理、材料测试及器件制备等相关领域的研究人员及研究生的参考书。特别对于希望从事Si1-xGex/Si材料、物理和器件研究的科学工作者,本书可作为一本入门的参考资料。

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